Europäischer Fonds für regionale Entwicklung
Maskenloser Aligner finanziert durch EFRE
Beschaffung und Etablierung eines maskenlos arbeitenden Belichtungsgerätes
für die Photolithographie mit EFRE-Mitteln
Mit diesem Gerät werden die technischen Möglichkeiten im Bereich der Mikrostrukturverfahren auf einen modernen, international konkurrenzfähigen Stand gebracht. Dies betrifft sowohl die dringend benötigte Steigerung der Auflösung in den sub-µm Bereich, sowie die Möglichkeit, in Zukunft auch 3D-Strukturen herzustellen.
Der Maskless Aligner kann 4" Wafer belichten. Eine laterale Auflösung von bis zu 0.6μm ist möglich und ermöglicht die dringend erforderlichen Mehrschicht-Strukturierungen. Daneben eröffnet er auch die Möglichkeit der Grautonlithographie, so dass damit auch komplizierte dreidimensionale Strukturen lithografisch erzeugt werden können. Das System arbeitet zudem ohne Maske als Direktbelichtungsgerät und erspart so die bei klassischen Verfahren laufend anfallenden Kosten für das Schreiben der lithographischen Masken. Auch ermöglicht das maskenlose Arbeiten im Projektverlauf eine höhere Flexibilität in der Erstellung von Mikrostrukturen, da das Layout laufend angepasst und verbessert werden kann, ohne dass für jeden Änderungsschritt eine neue Maske erforderlich wäre.
Zusätzlich ergeben sich Synergieeffekte, nicht nur durch die gemeinsame Nutzung von mehreren Arbeitsgruppen im Institut, sondern auch durch erhebliche Einsparungen in den laufenden Kosten, da in Zukunft keine Belichtungsmasken mehr erforderlich sind.
